Aan het nieuwe instituut gaat men fundamenteel onderzoek verrichten op het gebied van de nanolithografie, de belangrijkste technologie voor het produceren van computerchips en processoren in pc's, smartphones en tablets. In eerste instantie richt het ARCNL zich in het bijzonder op de fysische en chemische processen die cruciaal zijn voor Extreem Ultraviolet (EUV) lithografie.

Het ARCNL gaat in januari van start onder de vleugels van het FOM-instituut AMOLF. Het zal in twee jaar uitgroeien tot een zelfstandig onderzoekscentrum op het Science Park in Amsterdam, met zo’n honderd wetenschappers en technici. Prof.dr. Joost Frenken is benoemd als eerste directeur van het ARCNL. 

De partners van ARCNL staan gezamenlijk garant voor een investering van circa 95 miljoen euro in het komende decennium. De gemeente Amsterdam vult dit aan tot 100 miljoen euro. Aan de basisfinanciering van het ARCNL zullen private en publieke partijen ieder vijftig procent bijdragen.